Редактирование Интегральные схемы в России (секция)
Материал из Documentation.
Перейти к:
навигация
,
поиск
=== 90 нм === В 2009 году ГК «[[Роснано]]» и [[АФК «Система»]] подписали договор о создании на базе производственной площадки и инфраструктуры ОАО «НИИМЭ и Микрон» производства интегральных схем с проектными нормами 90 нм по технологии компании [[STMicroelectronics]] на пластинах 200 мм.<ref>[http://www.mikron.ru/company/history/ История]</ref> В 2010 году было подписано соглашение о передаче на «Микрон» технологии производства микросхем с нормами 90 нм от компании [[STMicroelectronics]].<ref>[http://www.mikron.ru/company/history/ История]</ref> В 2012 году была запущена линия по производству микрочипов с топологическим уровнем 90 нм.<ref>[http://www.mikron.ru/company/history/ История]</ref>
Описание изменений:
Отменить
|
Справка по редактированию
(в новом окне)
Просмотры
Статья
Обсуждение
Править
История
Личные инструменты
Представиться системе
Навигация
Заглавная страница
Случайная статья
Инструменты
Ссылки сюда
Связанные правки
Загрузить файл
Спецстраницы